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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 学术讨论 » 纳米制备艺术（20）：硅尖列阵制备工艺中的 高尖列阵
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Giantslug

金虫 (小有名气)

纳米工匠

[交流] 纳米制备艺术（20）：硅尖列阵制备工艺中的 高尖列阵 已有3人参与

【本木虫郑重申明，所有在这里展示的结果全部是本木虫自己的工作，无一是将他人结果搬来的。
纳米制备艺术（20）：硅尖列阵制备工艺中的 高尖列阵
通过调节RIE的腐蚀条件，可以获得高尖端列阵。顶上圆盘是腐蚀后的SiO2薄膜加剩余光刻胶。


纳米制备艺术（20）：硅尖列阵制备工艺中的 高尖列阵-1
甚至可以通过调节腐蚀条件，得到柱子列阵而非尖端列阵。
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展示所有自己研发的纳米制备工艺成果给大家，是本木虫的宗旨。
1楼 2014-02-19 01:18:16
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profzhou

铜虫 (正式写手)
★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包，谢谢回帖
有发表的文章可以  拿来看一下吗
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2楼2014-02-19 09:00:06
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c_kDr

金虫 (小有名气)
★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包，谢谢回帖
Three-dimensional etching of silicon substrates using a modified deep reactive ion etching
technique
看了楼主的帖子突然想起这篇文章来，这个team也一直关注于Si的RIE刻蚀，瞬间明白了他们的做法~~~
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3楼2014-03-06 22:20:23
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smicboy

铁虫 (小有名气)
★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包，谢谢回帖
不规则的好做，陡直的硅线才是是挑战

[ 发自手机版 http://muchong.com/3g ]
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4楼2014-04-10 20:54:23
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