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纳米制备艺术（20）：硅尖列阵制备工艺中的 高尖列阵 已有3人参与
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【本木虫郑重申明，所有在这里展示的结果全部是本木虫自己的工作，无一是将他人结果搬来的。 通过调节RIE的腐蚀条件，可以获得高尖端列阵。顶上圆盘是腐蚀后的SiO2薄膜加剩余光刻胶。  甚至可以通过调节腐蚀条件，得到柱子列阵而非尖端列阵。 |
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 纳米制备的艺术 |
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