| 查看: 923 | 回复: 7 | |||
| 当前主题已经存档。 | |||
| 当前只显示满足指定条件的回帖，点击这里查看本话题的所有回帖 | |||
zhangkun232至尊木虫 (著名写手)
|
[交流]
XPS 原理
|
||
|
哈哈大家能够探讨一下XPS 的原理吗？ XPS 的吸收峰主要受哪些因素影响？ 一个小例子比如：为什么阳离子16烷基的表面活性剂分子的N原子在孔道里会有不同的吸收？搞不清楚，化学元素价态一样，但是竟然会有3ev的差别，奇怪？ [ Last edited by zhangkun232 on 2008-1-20 at 09:00 ] |
回复此楼» 猜你喜欢
国家大人才课题组招收化学、材料化工类2026年调剂生
已经有0人回复
-
国家大人才课题组招收化学、材料化工类2026年调剂生
已经有0人回复
-
专业论文润色/翻译怎么收费?
已经有251人回复
-
天津科技大学-（院士团队）先进纤维与纸基功能材料团队 招收2026硕士调剂生
已经有0人回复
-
吉林工程技术师范学院 交叉学科研究院（08/07） 招收调剂
已经有4人回复
-
国家大人才课题组招收化学、材料化工类2026年调剂生
已经有0人回复
-
化工-材料与化工接收调剂3名
已经有0人回复
-
贵州大学2026年硕士研究生招生调剂缺额信息
已经有3人回复
-
河南理工大学化学化工学院招收硕士调剂生2名
已经有0人回复
-
大连工业大学招硕士研究生
已经有0人回复
-
河南理工大学化学化工学院招收硕士
已经有0人回复
» 本主题相关商家推荐: (我也要在这里推广)
★ ★ ★ ★
rabbit7708(金币+4,VIP+0):多谢热心应助！欢迎常来催化版喽!：）
rabbit7708(金币+4,VIP+0):多谢热心应助！欢迎常来催化版喽!：）
|
XPS的原理很多书上都有讲,利用单一射线源激发某一轨道的电子为光电子,通过检测光电子的能量可以了解元素种类,价态. 至于你说的情况,有两种可能,一种是你的表面活性剂在分子筛表面发生变化,不是你原来的表面活性剂了,这是因为分子筛的离子是高度配位不饱和的,这种情况有可能会发生;另外一种可能就是所谓驰豫效应,就是N原子的电子被激发后,没有直接跑出来,而是在分子筛孔洞发生弹性碰撞,电子能量降低,导致监测器检测到你的电子结合能发生变化,这种情况你可以比较一下电子谱中N的强度是否发生变化来判断这种可能性.不过如果是特征峰的话,用驰豫很难解释.所以我倾向于第一种可能. |
5楼2008-02-01 19:21:33
yuncld
木虫 (正式写手)
- 应助: 5 (幼儿园)
- 金币: 2863.2
- 散金: 10
- 帖子: 730
- 在线: 73.9小时
- 虫号: 266711
- 注册: 2006-07-22
- 性别: GG
- 专业: 色谱分析
2楼2008-01-20 10:56:16
zhangkun232
至尊木虫 (著名写手)
- 应助: 24 (小学生)
- 金币: 24233.9
- 散金: 6
- 红花: 7
- 帖子: 2741
- 在线: 236.3小时
- 虫号: 374725
- 注册: 2007-05-18
- 性别: GG
- 专业: 催化化学
★
rabbit7708(金币+1,VIP+0):认真思考，嗯，鼓励一下！：）
rabbit7708(金币+1,VIP+0):认真思考，嗯，鼓励一下！：）
|
是啊，很有道理！ 但是N的价态没有任何变化，C15H31CH2N（CH3）3，N带一个正电荷.如果从电子云密度考虑，在我们体系里N有两种价态，我们确信这根本不可能。但是需要提醒的是表面活性剂在孔道内以两种状态存在：通过静电引力直接与表面silanote( SiO-)；另一种是通过表面活性剂的反离子Br于表面的silanol（SiOH）结合，即上面的反离子作为中间介质，但是静电引力的本质没有任何变化，所以结合能不可能有如此之大的区别，3ev的差别，你不可想象？那是什么原因呢？当然这只是我自己的考虑和观点，有可能上面的差别就是结合能不同的原因？上面仅仅考虑了化学环境的差别。 难道是物理环境的差别引起的，XPS的结合能实际上反映了表面的化学状态和物理状态？如果从孔道表面结构信息的角度考虑，是不是可以部分解释上面的差别呢？通常认为MCM41孔道的表面是光滑的，如果表面活性剂是被局域在表面的微孔里，上面结合能的差异是不是可以解释呢？ |
3楼2008-01-20 18:15:45
zuozhijun5134
至尊木虫 (文坛精英)
- 应助: 314 (大学生)
- 金币: 15816
- 散金: 2369
- 红花: 14
- 帖子: 10682
- 在线: 303.6小时
- 虫号: 381687
- 注册: 2007-05-24
- 性别: GG
- 专业: 能源化工
4楼2008-01-23 19:47:18
