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三平方

金虫 (小有名气)

[求助] 谁能帮忙看一下正文里所做的原理和具体的处理过程是什么？ 已有1人参与

Before nanocrystal deposition, the wafer has been treated with
hexamethyl disilazane (HMDS) at 150°C for30 min. This treatment makes SiO2 surface more
hydrophobic and improves the uniformity and adhesion of the nanocrystal film.
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1楼 2013-12-25 21:14:57
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peterflyer

木虫之王 (文学泰斗)

peterflyer

【答案】应助回帖

★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★
感谢参与，应助指数 +1
三平方: 金币+8, ★有帮助 2013-12-26 09:01:30
在进行纳米晶沉积前，晶片要用六甲基二硅氮烷（HMDS）在150度处理30分钟。此处理使得SiO2表面变得更加疏水以改善纳米晶薄膜的均匀性以及（与SiO2表面之间的）粘附力。具体原理与过程可参考：
http://www.docin.com/p-542232866.html
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2楼2013-12-25 23:07:55
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