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谁能帮忙看一下正文里所做的原理和具体的处理过程是什么？ 已有1人参与
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Before nanocrystal deposition, the wafer has been treated with hexamethyl disilazane (HMDS) at 150°C for30 min. This treatment makes SiO2 surface more hydrophobic and improves the uniformity and adhesion of the nanocrystal film. |
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在进行纳米晶沉积前，晶片要用六甲基二硅氮烷（HMDS）在150度处理30分钟。此处理使得SiO2表面变得更加疏水以改善纳米晶薄膜的均匀性以及（与SiO2表面之间的）粘附力。具体原理与过程可参考： http://www.docin.com/p-542232866.html |
2楼2013-12-25 23:07:55