| 查看: 454 | 回复: 0 | ||
yishuiqing铜虫 (小有名气)
|
[求助]
溅射铜膜剥离二氧化硅的问题
|
| 我在300nm厚SiO2上磁控溅射了几十个纳米的铜膜，功率是250W，用HF腐蚀，需要很长时间才能把这层铜膜泡下来，而且铜膜都被腐蚀的差不多了，请问这样的现象正常吗？如何才能很快的把膜剥离下来？谢谢！ |
回复此楼» 猜你喜欢
稀土发光分析｜核壳结构｜寿命拟合
已经有13人回复
-
稀土发光分析｜核壳结构｜寿命拟合
已经有6人回复
-
无机化学论文润色/翻译怎么收费?
已经有170人回复
-
稀土发光分析｜核壳结构｜寿命拟合
已经有0人回复
-
稀土发光分析｜核壳结构｜寿命拟合
已经有0人回复
-
26 届青岛大学纺织化学与染整工程硕士（液体纳米分散染料方向）求申博建议
已经有4人回复
-
26 届青岛大学纺织化学与染整工程（液体纳米分散染料）求浙理工纺织 / 材料博导名额
已经有1人回复
-
敢问Acta Pharmaceutica Sinica B with Editor 三周了，能是什么情况？
已经有0人回复
-
求助 CeO2 Fe3O4 Cu2S CoFe2O4 标准卡 Jade 导出的数据
已经有0人回复
-
招生--河北大学26年秋季入学博士
已经有1人回复
» 本主题相关商家推荐: (我也要在这里推广)
点击这里搜索更多相关资源