| 查看: 435 | 回复: 0 | ||
yishuiqing铜虫 (小有名气)
|
[求助]
溅射铜膜剥离二氧化硅的问题
|
| 我在300nm厚SiO2上磁控溅射了几十个纳米的铜膜，功率是250W，用HF腐蚀，需要很长时间才能把这层铜膜泡下来，而且铜膜都被腐蚀的差不多了，请问这样的现象正常吗？如何才能很快的把膜剥离下来？谢谢！ |
回复此楼» 猜你喜欢
请问对标matlab的开源软件octave的网站https://octave.org为什么打不开？
已经有1人回复
-
求助两种BiOBr晶体的CIF文件（卡片号为JCPDS 09-0393与JCPDS 01-1004 ）
已经有0人回复
-
金属材料论文润色/翻译怎么收费?
已经有170人回复
-
哈尔滨工程大学材化学院国家级青年人才-26年硕士招生
已经有0人回复
-
求助Fe-TCPP、Zn-TCPP的CIF文件，或者CCDC号
已经有0人回复
-
河北大学-26年秋季入学申请考核制-化学博士1名
已经有0人回复
-
XPS/?λXPS
已经有0人回复
» 本主题相关商家推荐: (我也要在这里推广)
点击这里搜索更多相关资源