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CVD生长ZnO,管壁和舟上都有,但无法沉积到基片上?
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双温区管式炉热蒸发,Zn源600-800度,沉积区400-600度,载气Ar+O2约200sccm,基片为玻璃和硅片。 陶瓷舟、刚玉舟、管壁都能沉积上白色膜,但基片上很难,请教为何? 基片清洗非常干净,有机溶剂和酸液依次超声过。 |
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hngstephen
铜虫 (正式写手)
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2楼2013-11-14 16:41:26










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