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ALD制备氧化铝（TMA和O3）出现不均匀情况 已有2人参与
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各位虫友，有做ALD得没，最近我们组在用ALD 制备氧化铝出现很奇怪的现象，一直解决不了，采用TMA和O3制备Al2O3，长出来的薄膜出现均匀性差的现象。 我们采用的是4英寸Si（100）衬底，靠近源进气口出Al2O3薄，衬底的后一半均匀性非常好，我们尝试了各种方法，始终没长出整片均匀性比较好的Al2O3薄膜。 ALD生长氧化铝是一种最常见的方法，我们长TiO2和稀土氧化物都没出现这种不均匀的现象。 各位有做ALD的有出现过相似的情况没有？ |
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wsh1986112
金虫 (小有名气)
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