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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 合成表征 » 请教纳米氧化铁粒子低theta角XRD背景峰抬高的问题
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haichongwll

木虫 (小有名气)

[交流] 请教纳米氧化铁粒子低theta角XRD背景峰抬高的问题

最近做了一个纳米氧化铁的粒子合成，做XRD后发现其在10-25度的2-theta范围内的背景峰抬高较多，不知道是什么原因？后面的背景峰很正常，应该不是测量的问题，好几个样品都有类似情况。请教万虫～～
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1楼 2007-12-10 22:48:07
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ljbsd

木虫 (初入文坛)
好的单晶硅片不会有这个现象，这个范围可能是硅片的111衍射，你的硅片用的时间太久了表面磨损导致111面暴露出来了，
BTW，你的样品衍射比较弱，所以会有比较明显的硅片的衍射
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8楼2007-12-13 09:59:10
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haichongwll

木虫 (小有名气)
测试时用的是硅片作为衬底，是否这个原因？
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2楼2007-12-10 22:57:21
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zhaocl

铁杆木虫 (职业作家)
★
jackchen145(金币+1,VIP+0):谢谢应助，欢迎常来！
我的好多样品测XRD也出现你所说的现象！我做的时候是用玻璃片作载片，将样品置于其上面的孔里，然后再抹平！在10-25度的2-theta范围内的背景峰抬高，可能是玻璃的峰！不知你用的是啥底片，可以做个空白的底片的XRD对比一下
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3楼2007-12-11 00:56:28
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haichongwll

木虫 (小有名气)
我用的是硅片作底，看来多半是这个原因了，谢谢！
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4楼2007-12-11 09:49:14
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