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haichongwll

木虫 (小有名气)

[交流] 请教纳米氧化铁粒子低theta角XRD背景峰抬高的问题

最近做了一个纳米氧化铁的粒子合成,做XRD后发现其在10-25度的2-theta范围内的背景峰抬高较多,不知道是什么原因?后面的背景峰很正常,应该不是测量的问题,好几个样品都有类似情况。请教万虫~~
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ljbsd

木虫 (初入文坛)

好的单晶硅片不会有这个现象,这个范围可能是硅片的111衍射,你的硅片用的时间太久了表面磨损导致111面暴露出来了,
BTW,你的样品衍射比较弱,所以会有比较明显的硅片的衍射
8楼2007-12-13 09:59:10
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haichongwll

木虫 (小有名气)

测试时用的是硅片作为衬底,是否这个原因?
2楼2007-12-10 22:57:21
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zhaocl

铁杆木虫 (职业作家)


jackchen145(金币+1,VIP+0):谢谢应助,欢迎常来!
我的好多样品测XRD也出现你所说的现象!我做的时候是用玻璃片作载片,将样品置于其上面的孔里,然后再抹平!在10-25度的2-theta范围内的背景峰抬高,可能是玻璃的峰!不知你用的是啥底片,可以做个空白的底片的XRD对比一下
3楼2007-12-11 00:56:28
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haichongwll

木虫 (小有名气)

我用的是硅片作底,看来多半是这个原因了,谢谢!
4楼2007-12-11 09:49:14
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