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随着扫描圈数的增加,氧化峰的电流逐渐增大,但是还原峰的电流变化不明显
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随着扫描圈数的增加,氧化峰的电流逐渐增大,但是还原峰的电流变化不明显
我做咔唑的电化学聚合时,随着扫描圈数的增加,氧化峰的电流逐渐增大,但是还原峰的电流变化不明显,如何调整参数才能让还原峰的电流逐渐增大呢?谢谢各位大侠!
D$FSO{1WK1CEY2E%DAD((6F.jpg
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2013-10-26 23:00:49
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你的cv图,氧化电流随圈数增加逐渐增大,但也存在峰值电流逐渐趋向稳定的现象,表明后期氧化还原反应趋向稳定,是什么物质能让氧化电流逐渐增大,反应物质逐渐释放或者活化程度增大呢?反应是准可逆反应以上无疑。
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10楼
2013-10-29 13:52:36
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我做其他物质的聚合时也会出现这种情况,应该是还原过程有所抑制导致的,大的扫描速度下会好点。
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你有你的,我有我的,方向。
3楼
2013-10-27 16:48:25
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止于0414
at 2013-10-27 16:48:25
我做其他物质的聚合时也会出现这种情况,应该是还原过程有所抑制导致的,大的扫描速度下会好点。
这张图示100V/s,增大扫描速度到200V/s时,还原曲线变化确实会明显些,但是变化趋势仍然没有氧化曲线的好呀。我猜也是正离子自由基还原过程受抑制的缘故~~~除了扫描速度,还有其他方法吗?
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4楼
2013-10-27 18:41:38
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胡琪
at 2013-10-27 16:40:03
改变扫描速率试试,或者改变初始电位,你自己试试。
现在的扫描电位范围是-0.1-1.2 V,我的化合物里面有苯咔唑和苯噻唑,为了避免苯噻唑被氧化,最高电位是不能再增大了,我想可以尝试降低最低电位
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5楼
2013-10-27 18:56:05
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at 2013-10-27 18:41:38
这张图示100V/s,增大扫描速度到200V/s时,还原曲线变化确实会明显些,但是变化趋势仍然没有氧化曲线的好呀。我猜也是正离子自由基还原过程受抑制的缘故~~~除了扫描速度,还有其他方法吗?...
应该是0.1 V/s,0.2 V/s..........
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6楼
2013-10-27 18:57:42
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氧化产物附着在电极表面,且其还原性小于还原剂的还原性,可以从这个角度考虑,给电解池搅拌。
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2013-10-27 19:05:34
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氧化产物附着在电极表面,且其还原性小于还原剂的还原性,可以从这个角度考虑,给电解池搅拌。
放大数倍后,看到还原峰的电流也是逐渐增大的,只是不像氧化峰那么明显。给电解池搅拌?在测试过程中,测试体系是要静止不动的呀
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8楼
2013-10-27 19:52:19
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CV曲线表明这个反应是不可逆的,这时反应的本质,是改不了的。
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9楼
2013-10-29 11:14:24
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