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zdcamel

木虫 (著名写手)


[交流] 关于高碳铬轴承钢电解抛光的方法和试剂

最近要用XRD方法测定GCr15SiMn的残余奥氏体,但是测试老师说需要对试样进行点解抛光,之前没有做过电解抛光,请问用什么样的溶液?电流电压如何控制?试样是否首先需要机械粗磨和抛光,然后再进行点解抛光啊?我的试样面积是10*15mm,厚度有没有要求?点解到何种程度算是合适呢?表面是不是比机械抛光后更亮啊?
       求大家帮助,没有经验,还望大家指点,多谢多谢
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zdcamel

木虫 (著名写手)


引用回帖:
3楼: Originally posted by arkmix at 2013-10-28 23:00:16
我认为测试老师的意思可能不是说一定要电解抛光,而是让你去除表面应力,因为测残余奥氏体没必要电解抛光。你找个电解侵蚀的方法做就差不多了。

那个老师当时是那样说的,我就以为要电解抛光了,点解侵蚀有什么溶液可以用吗?和点解抛光不一样吗?
4楼2013-10-29 13:59:41
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zdcamel

木虫 (著名写手)


引用回帖:
5楼: Originally posted by arkmix at 2013-10-30 10:53:27
我个人的看法是:电解侵蚀和电解抛光在步骤上是一样的,电解侵蚀的目的就是像做金相那样,电解抛光的目的是较好的去除表面应力。所以就去除表面应力来讲电解抛光效果更好。不过我以前去钢研院测相含量的时候,那里 ...

好的,谢谢指教啊
7楼2014-06-26 09:20:05
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