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PLS OPLS O2PLS之间的区别
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| 请教一个问题 2个矩阵同时做PLS OPLS O2PLS 出来的correlation matrix 结果是一样的，不太懂 是应该一样吗？（注：用simca-P软件做的） |
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【答案】应助回帖
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偏最小二乘法（partial least squares, PLS）是一种已被应用的监督方法，PLS方法中描述性的数据矩阵X（比如光谱测量值、微阵列芯片信号强度）可以被响应数据矩阵Y（比如毒性测量值、样品重复信息）所提供的信息识。然而，数据矩阵X中与数据矩阵Y不相关的系统变量可影响PLS分析模型，这将使得矩阵X、Y中的某些正相关被忽略。 正交偏最小二乘法方法（orthogonal-PLS, OPLS）是一种新近发展起来的将正交信号校正方法（orthogonal signal correction, OSC）与PLS进行结合对PLS进行修正的分析方法。 OPLS是一种类似于PLS的多变量预测监督方法根据数据矩阵Y的差异，OPLS将数据矩阵X的差异分为两个部分，第一部分代表与Y相关的差异，第二部分代表与Y不相关（正交垂直）的差异，OPLS可将这两部分差异进行区分。OPLS是PLS的一种扩展并与PLS具有相同的分析目标，而且OPLS可直接与建模结合。 O2PLS是一种泛化的OPLS，可在两个数据矩阵中进行双向建模和预测。 |
2楼2013-07-07 21:47:47
3楼2020-04-17 16:39:17
4楼2020-07-27 17:19:01
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