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半导体薄膜制备及加工技术实验室

磁控溅射、电子束蒸镀制备金属薄膜Au,Ag,Al,Cu,Cr,Fe,Mo,Ni,非金属薄膜Al2O3,AZO,ITO,Si,SiO2,Si3N4,ZnO；IBE、RIE、WE刻蚀加工

联系人: 赵工 / 邮箱: zyy44138172@126.com / 手机: 15108299816

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foxs2

木虫 (文坛精英)

应助: 25 (小学生)
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专业: 无机非金属类光电信息与功

[商家供应] 提供镀膜、刻蚀加工

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内容

我室为专门的薄膜制备与刻蚀加工实验室，拥有多台大型磁控溅射、电子束蒸镀、LPCVD设备。可镀Mo、Au、Ag、Al、Cu、Cr、Fe、Ni等金属薄膜和Si、SiO2、Si3N4、Al2O3、AZO、ZnO、ITO等非金属薄膜，厚度一般在10~1000nm。加工TCO透明导电膜。可提供玻璃片、硅片基底，若选其他基底请自备。
提供RIE、IBE、WE等全套刻蚀加工服务，可刻蚀各种金属、非金属图形结构。非金属材料一般用RIE，金属常用IBE，刻蚀面积最大可为150mm直径。提供石英基底、硅基底压印模板加工。

赵工壹伍壹零捌贰玖玖捌壹陆 zyy44138172@126.com

[ Last edited by foxs2 on 2016-1-19 at 15:22 ]

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