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北京石油化工学院2026年研究生招生接收调剂公告
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whhui20006

木虫 (著名写手)

[交流] 请教关于循环伏安的问题

在循环伏安图中,峰的位置出现了平台,该怎么解释啊?就是在同样的扫描范围内,高速扫时有平台(氧化和还原峰的位置都出现了平台),低速扫平台就消失,出现峰。不知道怎么解释?
另外,将不同扫速得到的图形进行叠加,发现氧化和还原峰的位置漂移的很厉害,这又是什么原因啊?请高手指教一下
由于自己电化学基础知识比较薄弱,只好请高手帮帮忙啦

[ Last edited by whhui20006 on 2007-10-8 at 17:14 ]
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whhui20006

木虫 (著名写手)

感谢楼上各位的回答
11楼2007-11-09 11:33:04
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niudongfang

金虫 (小有名气)


allsw(金币+1,VIP+0):谢谢,参与交流!
出现平台的原因是因为你电流超载了,低速的时候电流相对于高速扫时要小,没发生超载,所以不会出现平台。一般不可逆反应,随着扫速增加,还原峰会负移的。
2楼2007-10-08 17:20:43
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baiyangshu1984

铜虫 (初入文坛)


allsw(金币+1,VIP+0):谢谢,参与互助!
扫速不一样,做出来的图当然不一样了
慢扫时,很微弱的反应也能出现峰,就是说反应速度很慢的反应可以被记录,快速扫描时,只能记录反应很快的,慢反应由于速率进行的慢,就不会被感应到,哈哈,可以这么通俗的理解吧,不是很确切
扫速不同,出现峰的电位也就会偏移,这是正常的,你可以找本书看一下,电化学测量方面的,都会说到这点,在循环伏安里面的,关于不可逆反应的叙述就会提到这个
3楼2007-10-08 17:25:46
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whhui20006

木虫 (著名写手)

谢谢楼上的回答
4楼2007-10-09 20:13:43
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