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半导体薄膜制备及加工技术实验室
磁控溅射、电子束蒸镀制备金属薄膜Au,Ag,Al,Cu,Cr,Fe,Mo,Ni,非金属薄膜Al2O3,AZO,ITO,Si,SiO2,Si3N4,ZnO;IBE、RIE、WE刻蚀加工
联系人:
赵工
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提供热固化压印模板、紫外固化压印模板,周期0.2~1微米的一维光栅、二维点阵,基底可以为硅片(热固化型)、石英基片(紫外固化型)或有机基片。
我室为专门的薄膜制备、刻蚀、加工实验室,拥有多台大型磁控溅射、电子束蒸镀、LPCVD设备。可提供Au、Ag、Al、Cu、Cr、Fe、Mo、Ni等金属薄膜和Si、SiO2、Si3N4、Al2O3、ITO、AZO、ZnO等非金属薄膜镀膜服务,镀TCO透明导电电极。提供1.1毫米玻璃片、硅片基底,其他基底请自备。
可提供RIE、IBE、WE等全套刻蚀加工服务,刻蚀各种金属、非金属图形结构。
赵工 壹伍壹零捌贰玖玖捌壹陆
zyy44138172@126.com
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