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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 功能材料 » 测试表征 » 测薄膜UPS为啥用Ar轰击不同的时间？
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lsle01

铁虫 (小有名气)

[交流] 测薄膜UPS为啥用Ar轰击不同的时间？ 已有1人参与

看一篇文献，用Ar轰击不同时间，然后分别测量其UPS谱
Ar轰击不同时间下的谱有啥意义？
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发论文！！！
1楼 2013-05-14 15:54:26
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westwolf

木虫 (著名写手)
★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包，谢谢回帖
Ar轰击的目的是去除表面吸附或者污染物（包括氧化等）。但同时会引起表面化合物的分解。最好溅射处理后进行超高真空热处理将表面复原（只能部分）。
另外：Ar离子轰击下不同时间的UPS谱如果不考虑表面污染等，相当于表面深度方面的UPS信息（深度分布）。
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2楼2013-05-16 16:41:55
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lsle01

铁虫 (小有名气)
引用回帖:
2楼: Originally posted by westwolf at 2013-05-16 16:41:55
Ar轰击的目的是去除表面吸附或者污染物（包括氧化等）。但同时会引起表面化合物的分解。最好溅射处理后进行超高真空热处理将表面复原（只能部分）。
另外：Ar离子轰击下不同时间的UPS谱如果不考虑表面污染等，相当 ...

3楼2013-05-17 16:35:39
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