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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 无机非金属 » 交流探讨 » 半导体行业内三氧化二铝薄膜的介电常数是多少？
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xiris

金虫 (初入文坛)

[交流] 半导体行业内三氧化二铝薄膜的介电常数是多少？

半导体行业内三氧化二铝薄膜的介电常数是多少？是不是不在此范围内的都不是Al2O3薄膜？
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1楼 2013-05-09 09:54:10
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xiris

金虫 (初入文坛)
引用回帖:
3楼: Originally posted by diwunju at 2013-05-12 10:01:47
没记错的话9左右

应该有个范围的吧？8-10？9-10？
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6楼2013-05-23 17:44:00
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wuxinweiyun

铁虫 (小有名气)
★
xiris(金币+1): 谢谢参与
介电常数不知道，不过我知道普通的氧化铝膜是活性的，不是a氧化铝，通常介电常数都不高。a相的阻值应该在10的6次方左右。
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2楼2013-05-11 10:58:11
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diwunju

铁杆木虫 (正式写手)
★
xiris(金币+1): 谢谢参与
没记错的话9左右

[ 发自手机版 http://muchong.com/3g ]
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3楼2013-05-12 10:01:47
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破卷天涯

银虫 (著名写手)
★
xiris(金币+1): 谢谢参与
半导体行业的Al2O3薄膜介电常数在9左右，生长的质量不同而不同，禁带宽度大概在6.5ev
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8楼2014-06-06 23:42:37
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