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毛小孩

铁杆木虫 (正式写手)

[求助] 量子点包覆SiO2壳层以后,想在壳层表面进行修饰,具体方法?

RT,量子点包覆SiO2壳层以后,想在壳层表面进行修饰高分子物质或者一些功能性物质,但是不知道用什么方法,大家又做这方面研究的吗?谢谢啦~

[ Last edited by 124685887 on 2013-5-5 at 10:23 ]
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加油啊,要不你还能干什么。。。
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liujizgd

木虫 (著名写手)

【答案】应助回帖

引用回帖:
6楼: Originally posted by 毛小孩 at 2013-05-04 15:04:09
我看过连接硅烷偶联剂的文献,但是在- Si - OH能与C基的-OH或者-COOH反应吗?...

硅表面羟基与硅烷的羟基脱水缩合 形成O-Si-O 键
你哭着对我说,文献里都是骗人的。。
7楼2013-05-04 22:09:49
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liujizgd

木虫 (著名写手)

【答案】应助回帖

★ ★
感谢参与,应助指数 +1
毛小孩: 金币+2, 有帮助, 我看过连接硅烷偶联剂的文献,但是在- Si - OH能与C基的-OH或者-COOH反应吗? 2013-05-04 22:02:24
这种文献不一大把么 APTES GPMS 之类的 引入氨基 环氧基 等等 去Sigma看看功能性硅氧烷 很多
你哭着对我说,文献里都是骗人的。。
3楼2013-05-04 20:42:36
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zxhuizhang

木虫 (正式写手)

【答案】应助回帖

感谢参与,应助指数 +1
是不是引入巯基?
见此
4楼2013-05-04 21:08:15
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毛小孩

铁杆木虫 (正式写手)

引用回帖:
4楼: Originally posted by zxhuizhang at 2013-05-04 21:08:15
是不是引入巯基?

引入巯基估计是跟量子点核结合的吧?能跟硅壳层结合,包覆在表面吗?
加油啊,要不你还能干什么。。。
5楼2013-05-04 22:03:59
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