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[求助]
QCM求助
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大家好，本人最近在做QCM的试验，不知道是仪器的问题还是本人操作的问题，将石英晶片装入chamber后，通过pump将溶液引入晶片表面时溶液总是不能覆盖住晶片的整个表面，我不知道是安装过程中出现了问题还是chamber本身的问题，因为我之前用了一个chamber做实验也是这种情况，后来换了另外一个前两次还可以现在又不行了。和导师讨论了下说有没有可能是因为晶片修饰的不够好（我先用MUDA修饰的表面）表面太疏水才会造成这种结果。教授说这个和亲疏水性是没有关系的，因为里面应该是没有空气的（这个不是大明白），即使是疏水的液体也可以覆盖整个晶片表面的，所以我就不知道是不是操作有问题了。这台仪器多年没有人使用过了，所以也没人能给我比较专业的指导和建议，希望有用过得能给我一些帮助，非常感谢！另外就是最近两次试验都是valve control 的软件都是自动死掉了，必须强制关掉再重启，但是实验也就毁了。 注：本人实验室的QCM是LiquiLab 21 QCM-Experimentalsystem 再次感谢，期待你们的帮助！ |
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