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叶潇

铁虫 (初入文坛)

[求助] 包覆介孔硅时发生团聚现象

制备Fe3O4/nSiO2/mesoSiO2磁性纳米材料时,在乙醇、水的碱性体系中,以CTAB为模板剂,TEOS为硅源,在包覆介孔硅时,SEM图显示出现了大量团聚现象,而且粒径很大且大小不一,其中制备的Fe3O4/nSiO2粒径大概300-400nm左右,想要制备的Fe3O4/nSiO2/mesoSiO2粒径在500nm以内,应该怎么改进?

在改变TEOS量后,SEM图中显示有大小不一的纳米颗粒,是什么原因呢?哪位大师给指点一下

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叶潇

铁虫 (初入文坛)

引用回帖:
7楼: Originally posted by refnew at 2013-04-25 20:21:42
第一层包覆二氧化硅后没团聚?

第一层没发生团聚今天用超声波做的,260度煅烧,没团聚,但是形貌不好~

[ 发自手机版 http://muchong.com/3g ]
9楼2013-04-25 22:17:19
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zihua886

铁杆木虫 (正式写手)

【答案】应助回帖


感谢参与,应助指数 +1
叶潇: 金币+1, 有帮助 2013-04-26 08:43:57
CTAB体系下团聚的话是不是乙醇的问题?
工作原因,暂离数月。
3楼2013-04-25 08:52:28
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wqy06407

木虫 (正式写手)

【答案】应助回帖

感谢参与,应助指数 +1
用稀释的CTAB清洗几次,然后制备样品,效果佳
人,一辈子,开心就好
4楼2013-04-25 09:15:44
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叶潇

铁虫 (初入文坛)

引用回帖:
3楼: Originally posted by zihua886 at 2013-04-25 08:52:28
CTAB体系下团聚的话是不是乙醇的问题?

是说的乙醇的量的问题吗?应该怎么改正呢?

[ 发自手机版 http://muchong.com/3g ]
5楼2013-04-25 12:35:17
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