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包覆介孔硅时发生团聚现象
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制备Fe3O4/nSiO2/mesoSiO2磁性纳米材料时，在乙醇、水的碱性体系中，以CTAB为模板剂，TEOS为硅源，在包覆介孔硅时，SEM图显示出现了大量团聚现象，而且粒径很大且大小不一，其中制备的Fe3O4/nSiO2粒径大概300-400nm左右，想要制备的Fe3O4/nSiO2/mesoSiO2粒径在500nm以内,应该怎么改进？ 在改变TEOS量后，SEM图中显示有大小不一的纳米颗粒，是什么原因呢？哪位大师给指点一下  1.jpg  2.jpg |
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