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[交流]
请问MCM-41低角度XRD和TEM的具体操作都是怎样的,谢谢先
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刚接触介孔材料,很多表征的方法感觉跟催化都不是太一致 文献上多用小角度XRD和TEM来表征MCM-41 但是好象很少有文献具体说这些表征的参数,请各位不吝赐教 比如XRD的扫描速度,步长等都怎么设置 HRTEM的制样有什么特别的地方吗,需要切片啥的还是象通常催化剂那样分散粉末弄到铜网上就OK了 谢谢各位先 |
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