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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 合成表征 » FTIR衬底
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zjuxwy

禁虫 (小有名气)
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1楼2013-04-08 17:49:13
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SCU_magiclee

铁杆木虫 (正式写手)

硅材料研发人员

【答案】应助回帖

旋涂之前前扫一个硅片的谱图，然后有两个方案：
1.以这个硅的谱图作为背景（background），扫这块硅片旋涂ZnO后的谱图，所得的谱图就是了。
2.氮气吹扫样品腔后，以空气（其实是富N2的气氛）为背景，分别扫硅、硅+ZnO的两个样品，两个样品的硅片要是同一个。然后差谱就行了。
可能出现的问题，旋涂后干燥不充分，水会干扰谱图。还有就是旋涂不上，因为洗干净的硅片表面貌似是疏水的。。。可能要考虑表面处理、修饰的问题
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是金子总会发光！！！
6楼2013-04-12 09:43:00
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hwweven

至尊木虫 (知名作家)

医疗器械注册和审核

优秀版主
呃，这个不需要衬底的吧？
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2楼2013-04-08 20:31:18
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murray-yue

铜虫 (初入文坛)

【答案】应助回帖

★ ★ ★ ★
感谢参与，应助指数 +1
zjuxwy: 金币+4, ★有帮助, 一般的Si片行不行啊 2013-04-08 20:51:25
GaAs wafer 和Ge wafer 都可以，红外透过性好。
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3楼2013-04-08 20:41:25
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zjuxwy

禁虫 (小有名气)
本帖内容被屏蔽
4楼2013-04-08 20:49:58
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