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清理基片过程
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lmcr
铜虫
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虫号: 561881
[交流]
清理基片过程
如题,
最近在清理基片,其中有些不时很明白,丙酮清理基片主要是清理基片上面的有机物嘛?然后又用异丙醇的目的是什么?最后用去离子水的作用?为什么要选择去离子水呢?
谢谢先!
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1楼
2013-03-30 03:57:19
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zylmll
新虫
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2013-04-03 04:03:27
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2013-04-11 03:18:09
要超声的,酒精多洗两次吧
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8楼
2013-03-31 12:10:09
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zeiss
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zhaohaixing: 欢迎来功能材料版块交流~
2013-03-30 16:33:12
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2013-04-03 04:02:08
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2013-04-11 03:17:02
丙酮是用来清洗有机物的,但是丙酮有毒,使用时要注意,也可以用乙醇代替。异丙醇我没用过,不知道其目的。去离子水没什么特别的原因,就是 因为其纯度比较高,不含任何杂质,清洗后基片上不会残留什么杂质离子的,影响薄膜的生长。希望对你有所帮助。
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2楼
2013-03-30 11:03:20
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anjin0716
银虫
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zhaohaixing: 欢迎来功能材料版块交流~
2013-03-30 16:33:28
lmcr: 金币+1
2013-04-03 04:02:35
可能是去污时和丙酮反应的,或极性丙酮不能清除的吧,也有可能是为了清洗的更洁净吧,不过你把异丙醇这不去掉,也不会有太大影响啊!
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3楼
2013-03-30 13:58:45
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易水刀客
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2013-04-03 04:02:55
我们用碱液搓。然后用去离子水冲洗。我见过那种用丙酮和乙醇,去离子水处理的。涂膜状况奇差
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4楼
2013-03-31 08:44:13
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