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sunliuqian

银虫 (小有名气)

[求助] 求助一段汉译英的翻译,谢谢

值得注意的是，在300℃退火后样品的Ni2p和B2p的XPS峰强度显著强于制备态和400退火的样品。通常，XPS峰的强度和探测到的光电子强度，即收集到的光电子数目有关,而收集到的光电子数量要受到表面粗糙度的影响。本实验中，制备态，300℃和400℃的样品的XPS实验是在同样的条件下测试的，样品的各层厚度一样，而且测得的Al2p的XPS峰的强度也基本相同，如图4。（d）所示。但是300退火后的样品的Ni2p和B2p的XPS峰强度明显强于制备态和400度的，这表明300度退火的样品的NiB/Al界面质量要优于制备态和400的退火的NiB/Al界面。
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Loncheen
1楼 2013-03-17 18:20:14
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hookhans

铁杆木虫 (著名写手)

Farmer
另外, 你这里将的NiB/Al界面是膜的界面,还是指纳米粉末材料? 如果是前者, 用XPS比较还有可信度,但是,后者可信度就低了. 因为, interface 和bulk 比, 是微不足道的. XPS无法测定如此精细的结构.

学术讨论而已.
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where-there-is-a-will-there-is-a-way.
3楼2013-03-17 21:29:12
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hookhans

铁杆木虫 (著名写手)

Farmer

【答案】应助回帖

这个XPS的解析是否有问题呀? 表面粗糙度的影响? 你的样品有多粗糙? 做过电镜看表面形貌吗?
即时表面粗糙,但是XPS峰的强度也受元素相应价态含量的影响.退火前后价态变化引起的峰值变化考虑过了吗?

谨供参考.
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where-there-is-a-will-there-is-a-way.
2楼2013-03-17 21:23:55
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sunliuqian

银虫 (小有名气)
引用回帖:
2楼: Originally posted by hookhans at 2013-03-17 21:23:55
这个XPS的解析是否有问题呀? 表面粗糙度的影响? 你的样品有多粗糙? 做过电镜看表面形貌吗?
即时表面粗糙,但是XPS峰的强度也受元素相应价态含量的影响.退火前后价态变化引起的峰值变化考虑过了吗?

谨供参考.

您这个问题很内行啊. 很谢谢啊
我们的同样的样品 不同的温度处理工艺
而且xps测试时 条件完全一样
没有发生什么价态的变化,  
没有做电镜,
具体点就是底层辐射出的光电子受到界面粗糙度的影响.
如果收集到的xps峰强度比较强的话,说明界面质量良好
减弱的话,可能界面恶化导致的吧.
审稿人问到了这个问题,实在想不出更好的解释
我查了下xps的东西,貌似光电子的信息深度的确受到粗糙度的影响.
所以就按这个思路解释了.


求翻译.
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Loncheen
4楼2013-03-17 21:34:03
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sunliuqian

银虫 (小有名气)
引用回帖:
3楼: Originally posted by hookhans at 2013-03-17 21:29:12
另外, 你这里将的NiB/Al界面是膜的界面,还是指纳米粉末材料? 如果是前者, 用XPS比较还有可信度,但是,后者可信度就低了. 因为, interface 和bulk 比, 是微不足道的. XPS无法测定如此精细的结构.

学术讨论而已.

而且薄膜的厚度分别为10nm/1nm
很薄的薄膜
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Loncheen
5楼2013-03-17 21:39:12
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