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axing872880铜虫 (小有名气)
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关于在colloidal lithography方法中PS球在PMMA衬底上分散不均匀的问题
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大家好，我是做微纳和磁学、磁光的。 我用colloidal lithography方法做模版，然后再沉积金属纳米粒子。 在我做模版的过程中，碰到了这么个问题： 先说一下colloidal lithography的过程： 在玻璃上旋涂PMMA，然后用PDDA将表面正电荷charge(饱和），再把PS球溶液滴在上面，spin一会（速度低，不会将液滴甩出去），再用水冲干净，最后N2吹干。 现在的问题是如果用高浓度的PS溶液，做出来的ps球均匀分散，但是低浓度的ps溶液，在PMMA上均匀性很差。 可能是因为高浓度时ps球之间有斥力，可以保证彼此之间力的平衡。 问题就是怎么提高低浓度时 ps球的均匀性？ 谢谢各位虫友。 [ Last edited by axing872880 on 2013-3-7 at 05:23 ] |
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