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GH4169热处理时的氧化问题
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| 想做GH4169失效热处理试验:试验条件1040℃保温1h,水冷,900℃分别保温6、12、24小时,想请问一下如果时效用高温炉不是真空炉的话,氧化层大概会有多厚呢?想要加工圆柱试样,得保留一定的氧化余量才行呢!!! |
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xucz
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deng_jiao