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GH4169热处理时的氧化问题
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| 想做GH4169失效热处理试验：试验条件1040℃保温1h，水冷，900℃分别保温6、12、24小时，想请问一下如果时效用高温炉不是真空炉的话，氧化层大概会有多厚呢？想要加工圆柱试样，得保留一定的氧化余量才行呢！！！ |
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