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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 功能材料 » 功能薄膜 » 各位大神，求助一下多层透明导电薄膜中的中间金属层一般是用什么方法沉积的啊
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shining1989

新虫 (初入文坛)

[求助] 各位大神，求助一下多层透明导电薄膜中的中间金属层一般是用什么方法沉积的啊

为提高薄膜的导电性能，会研究多层薄膜，但是中间金属层（一般为Ag层）怎样才能沉积的很薄很均匀呢？用的磁控溅射法，不能达到很好的效果啊，膜层不均匀，导电性能也不够好啊
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1楼 2013-02-26 15:07:19
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solar123

金虫 (小有名气)

【答案】应助回帖

感谢参与，应助指数 +1
蒸镀应该可以的，磁控溅射可能速度不好控制吧，蒸镀的话可以做得比较薄的，仪器也不是非常贵
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2楼2013-02-26 16:06:35
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scchung

铁杆木虫 (著名写手)

chung

【答案】应助回帖

感谢参与，应助指数 +1
導電要求---方阻是多少???
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chung
3楼2013-02-26 17:42:04
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天之蓝心

木虫 (正式写手)

五月散人

【答案】应助回帖

感谢参与，应助指数 +1
试试多弧离子镀膜，但用银靶成本会很高

[ 发自手机版 http://muchong.com/3g ]
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他大舅他二舅都是他舅
4楼2013-02-27 09:33:16
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天之蓝心

木虫 (正式写手)

五月散人

【答案】应助回帖

试试多弧离子镀膜，但用银靶成本会很高

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他大舅他二舅都是他舅
5楼2013-02-27 09:33:44
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CNRC

铜虫 (初入文坛)

【答案】应助回帖

★
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蒋青松: 金币+1, 鼓励交流 2013-02-28 20:56:28
1、这种Ag导电层还是用中频磁控做比较好，你要做的就是控制工艺参数。
2、相比之下，它的成膜速率比较稳定500nm/h以内，Ar分压不要大于0.5Pa，本底真空抽到10-4，电压不要超过500V，偏压自己掌握；
3、多弧镀一个高纯银靶就够你折腾的，老师也未必同意你采购，国内多弧设备液滴的控制绝对都不怎么样，一般主要用于没有表面光洁度要求和反射率要求的膜系，劝你不要尝试了。
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6楼2013-02-27 21:55:00
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sunwinner

金虫 (正式写手)

【答案】应助回帖

感谢参与，应助指数 +1
你的样品尺寸多大？实验室用的话，还是小型蒸镀设备吧（例如600mm的），EB+晶振控制，应该满足你的要求。
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7楼2013-02-28 07:36:04
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shining1989

新虫 (初入文坛)
引用回帖:
6楼: Originally posted by CNRC at 2013-02-27 21:55:00
1、这种Ag导电层还是用中频磁控做比较好，你要做的就是控制工艺参数。
2、相比之下，它的成膜速率比较稳定500nm/h以内，Ar分压不要大于0.5Pa，本底真空抽到10-4，电压不要超过500V，偏压自己掌握；
3、多弧镀一个 ...

谢谢亲，回答的很详细。。但是是用直流还是射频呢？我们这好像还木有中频的。。。。。
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8楼2013-02-28 09:29:11
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zhxfish

金虫 (著名写手)

【答案】应助回帖

感谢参与，应助指数 +1
一般用直流磁控溅射，厚度可以很好的控制啊，相关文献很多的。
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人生聚散本无常，偶然聚合便顷刻要分离，虽然遗憾，又何必悲伤，命运难期，何处不能要逢。我愧无嘉言懿行，足为兄助，但愿他日重逢，耿耿此心依旧，为兄一饮庆.
9楼2013-02-28 22:32:37
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