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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 化学化工区 » 电化学 » 其它 » 硅表面镀铜
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郑菲

金虫 (正式写手)

[求助] 硅表面镀铜

想在硅表面镀铜，本人这方面不懂，请虫友们不吝赐教呀
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1楼 2013-01-27 20:13:16
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回帖支持 ( 显示支持度最高的前 50 名 )

yj656

木虫 (著名写手)

【答案】应助回帖

★ ★ ★ ★ ★
感谢参与，应助指数 +1
郑菲: 金币+5, ★★★很有帮助 2013-01-27 21:07:04
这个要看楼主要镀多厚了，一般用蒸发或者溅射的方法在硅上沉积一层Ti当打底层，然后用同样的方法可以制备2微米以内的铜膜。如果您需要更厚的铜膜，比如在MEMS工艺中的电铸，就需要在上述步骤之后通过电镀进行加厚。如果感兴趣的话，可以提出具体的工艺要求，我帮你设计方案。
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3楼2013-01-27 20:43:52
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yj656

木虫 (著名写手)
天哪，楼主都900多金币了还是新虫啊，斑竹什么时候给我也发点金币当福利啊！！！
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4楼2013-01-27 20:45:27
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普通回帖

digghost

木虫 (著名写手)

【答案】应助回帖

★ ★ ★ ★ ★ ★
感谢参与，应助指数 +1
郑菲: 金币+5, ★★★很有帮助 2013-01-27 21:10:32
yanbo1986: 金币+1, 感谢应助。 2013-01-27 22:39:23
使用化学镀得方法,因为硅de导电性不好,或者用沉积的方法.
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呵呵了
2楼2013-01-27 20:24:59
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郑菲

金虫 (正式写手)
引用回帖:
4楼: Originally posted by yj656 at 2013-01-27 20:45:27
天哪，楼主都900多金币了还是新虫啊，斑竹什么时候给我也发点金币当福利啊！！！

这方面不懂嘛，没做过
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5楼2013-01-27 21:06:21
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郑菲

金虫 (正式写手)
引用回帖:
3楼: Originally posted by yj656 at 2013-01-27 20:43:52
这个要看楼主要镀多厚了，一般用蒸发或者溅射的方法在硅上沉积一层Ti当打底层，然后用同样的方法可以制备2微米以内的铜膜。如果您需要更厚的铜膜，比如在MEMS工艺中的电铸，就需要在上述步骤之后通过电镀进行加厚。 ...

非常感谢，我就想在硅片上镀一层薄一点并且很光滑的铜，2微米以内的就足够了，溅射没有设备呢，有没有一般实验室就能做到的方法，
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6楼2013-01-27 21:09:38
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郑菲

金虫 (正式写手)
引用回帖:
2楼: Originally posted by digghost at 2013-01-27 20:24:59
使用化学镀得方法,因为硅de导电性不好,或者用沉积的方法.

能具体说一下吗？之前没有接触过，谢谢
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7楼2013-01-27 21:10:56
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郑菲

金虫 (正式写手)
引用回帖:
2楼: Originally posted by digghost at 2013-01-27 20:24:59
使用化学镀得方法,因为硅de导电性不好,或者用沉积的方法.

求支招
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8楼2013-01-27 21:56:43
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郑菲

金虫 (正式写手)
引用回帖:
3楼: Originally posted by yj656 at 2013-01-27 20:43:52
这个要看楼主要镀多厚了，一般用蒸发或者溅射的方法在硅上沉积一层Ti当打底层，然后用同样的方法可以制备2微米以内的铜膜。如果您需要更厚的铜膜，比如在MEMS工艺中的电铸，就需要在上述步骤之后通过电镀进行加厚。 ...

为什么要沉积一层Ti当打底层？
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9楼2013-01-27 21:57:24
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yj656

木虫 (著名写手)

【答案】应助回帖

★ ★
郑菲: 金币+2 2013-03-07 21:36:13
因为在硅上直接镀铜结合力很差的，所以需要一层和硅亲和力好的金属来进行打底，就像家具上漆之前需要打一层腻子是一个道理。
如果楼主想通过化学镀的方法镀铜的话，一般情况结合力是很差的，需要对硅片通过氨水等碱性溶液进行粗化处理。硅片粗化后粗糙度估计会有0.3nm~0.5nm左右，化学镀铜后粗糙度可能达到几十个纳米，不知能否满足你所说的光滑。你上万能的淘宝买点镀铜溶液回来自己试试哈！
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10楼2013-01-27 22:24:48
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