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Roughness issue of DC magnetron sputtered Al film
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各為大家好!! 我有一個問題想請教各位~為什麼我鍍出的?礓X膜粗糙度(roughness)都很高呢? 附件是我拍的TEM影像，其結構為(由下到上) Si(100)/c-Al/a-Si 鋁條件 : power : 200W Distance : 8cm (From sub. to target) Pre-sputter time : 600s Deposition time : 420s Base pressure : 4.4 * 10E-6 torr Work pressure : 3 mtorr Work temperature : room temperature  untitled.JPG |
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