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关于硅片清洗液工业生产的研究
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请教个各位木虫： 对于单晶硅片清洗液的工业生产研究，现在所了解的是光伏企业制绒前基本都采用低浓度氢氧化钠与双氧水清洗2min之后用于制绒，而根据各种文献与专利，都在提使用表面活性剂与螯合剂，之中加入无机助剂与有机碱清洗，但本人实验使用了其所提到的表面活性剂，若出水之后不仔细冲洗，表面活性剂很容易在硅片残留，影响制绒反应，根据其提供的清洗工艺，都需要清洗5－8min，之后浸洗也需要相当长的时间，这在生产线上很难实现，同时实验根据大部分文献专利提供的配方，其清洗效果基本一般，大部分污染物是在其IPA制绒体系中得到清洗，如果实验使用自己的制绒配方，低浓度氢氧化钠与双氧水清洗，制绒之后干净，而那些配方基本无一干净的，自己研究的清洗配方想对硅片的清洗率达到90%以上，表面活性剂的残留对制绒不存在影响，不知道各位虫友怎么解决这一问题，使用的是什么表面活性剂  |
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