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矿物学博士

铁虫 (小有名气)

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10楼: Originally posted by fbqrdzs at 2013-01-03 16:36:26
我说的详细一点吧:先用去离子水洗,超声2跟中,然后用酒精洗超声2分钟,这样3次,最后一次记得使用去离子水洗,这样应该干净了,然后干燥。如果你要问cl离子对你样品的影响的话,我认为没有,因为你的SiO2是很稳定 ...

好,我试试
11楼2013-01-03 16:42:32
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矿物学博士

铁虫 (小有名气)

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10楼: Originally posted by fbqrdzs at 2013-01-03 16:36:26
我说的详细一点吧:先用去离子水洗,超声2跟中,然后用酒精洗超声2分钟,这样3次,最后一次记得使用去离子水洗,这样应该干净了,然后干燥。如果你要问cl离子对你样品的影响的话,我认为没有,因为你的SiO2是很稳定 ...

那其中的原理是什么呢,是不是因为氯离子和硫酸根离子大多易容,所以用去离子水洗就可以了吧
或者是不是可以理解因为有氯离子和硫酸根子的加入,引入了新的离子,所以最好去除,怕影响了SiO2的纯度吧?
12楼2013-01-03 16:45:20
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匿名

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13楼2013-01-03 16:49:16
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矿物学博士

铁虫 (小有名气)

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13楼: Originally posted by fbqrdzs at 2013-01-03 16:49:16
不是,这些离子在样品上是以吸附的形式存在,在水溶液中是以游离的形式存在,并没另一个稳定的化学键跟他们匹配,因此随水去除。再说你引入的离子是少量的。

哦,你是说那引入的离子是游离的,用去离子水一冲就把这些引入的杂质给随水带走了吧,因为没有和其他物质形成络合物之类的吧?
14楼2013-01-03 18:12:23
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匿名

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15楼2013-01-03 18:19:31
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矿物学博士

铁虫 (小有名气)

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15楼: Originally posted by fbqrdzs at 2013-01-03 18:19:31
对的,是这个意思,你自己能理解很好。

那用溶胶法制备纳米二氧化硅,那是不是说在溶胶凝胶法制备中,这种方法(溶胶)主要是通过强烈的水解作用产生的吗,团聚对这个反应来说是不利的,可以这么解释吗,那pH值该如何控制呢,是高于它的零电点(pH>4)吗
16楼2013-01-03 21:32:57
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匿名

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17楼2013-01-03 21:37:43
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zlbhfe

铜虫 (著名写手)

用酒精和水反复洗几次
18楼2013-01-04 08:48:47
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矿物学博士

铁虫 (小有名气)

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17楼: Originally posted by fbqrdzs at 2013-01-03 21:37:43
pH 值我以前用硝酸控制过,你这个体系需要控制pH多少我也不知道。

那用溶胶法制备纳米二氧化硅,那是不是说在溶胶凝胶法制备中,这种方法(溶胶)主要是通过强烈的水解作用产生的吗,团聚对这个反应来说是有利还是不利呢,那不就是要让其团聚溶胶作用形成胶体让其凝聚吗,那团聚是有利还是不利呢
19楼2013-01-04 09:32:20
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20楼2013-01-04 09:58:50
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