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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 学术讨论 » 纳米SiO2制备的方法
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矿物学博士

铁虫 (小有名气)

[求助] 纳米SiO2制备的方法

求助SiO2的制备中，用沉淀法等制备中，需要洗Cl和硫酸根离子，请问主要是用什么方法实现的啊
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1楼 2013-01-03 09:24:26
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材料学基础

银虫 (小有名气)
那么请问TEOS法的水解是在酸性还是碱性条件下进行的呢，二氧化硅的等电点是2.5啊，那为什么在碱性条件下还利用聚合呢，》2.5颗粒之间相互排斥不都没办法聚合了吗，对于整个反应来说需要在水解和聚合过程都调节PH吗？
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32楼2013-01-06 22:36:16
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匿名

用户注销 (职业作家)
★ ★ ★ ★
感谢参与，应助指数 +1
矿物学博士: 金币+4, ★有帮助 2013-01-03 15:59:41
本帖仅楼主可见
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2楼2013-01-03 10:32:13
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矿物学博士

铁虫 (小有名气)
引用回帖:
2楼: Originally posted by fbqrdzs at 2013-01-03 10:32:13
这个很平常的洗法：用酒精和去离子水反复冲洗。
没问题的，金和硅的混合物都是那么洗的。

这个，到底怎么洗啊，引入氯离子和硫酸根有什么影响啊，不洗可以不
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3楼2013-01-03 13:37:31
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矿物学博士

铁虫 (小有名气)
还有就是怎么判断氯离子和硫酸根离子是否洗干净了呢，怎么知道不含氯离子等？
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4楼2013-01-03 14:24:14
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