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[交流] 静电作用对纳米粒子脱酸的影响

气相法二氧化硅在脱酸过程中需要加入水蒸气在高温下脱除二氧化硅表面吸附的HCL气体,目前有两种机理:
1、水蒸气有更高的活化能,使HCL从二氧化硅内脱除。
2、水蒸气的加入,使得二氧化硅粒子由于磨擦产生间的静电减弱,从而达到脱酸的作用。
请教各位大侠,哪种机理更为准确,另小弟不明白静电对二氧化硅粒子的脱酸有什么影响?
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纳米二氧化硅
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