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moonwy

金虫 (初入文坛)

[求助] 刻蚀问题

请教大家一个bosch工艺的问题,用Cr或者Al做掩蔽,干法刻蚀(ICP)刻出来的结果总是锥形,横向刻蚀非常严重。而用光刻胶做掩蔽,刻出来效果不错。(参数:刻蚀 SF6 700w 7s 钝化 C4F8 600w 7s ;仪器:牛津仪器 Plasmalab system 100)
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真空涨落

木虫 (小有名气)

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sf6的陡直度不好,这个还和各个流量比例有关,还有上下极板电压,功率有关

[ 发自手机版 http://muchong.com/3g ]
物含妙理总堪寻
2楼2012-12-17 17:42:41
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yswyx

专家顾问 (著名写手)


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moonwy: 金币+1 2012-12-18 22:45:27
你测过金属掩膜的选择比吗?
光刻胶侧向也很厉害的,你也可以测一下。
我觉得是你没有把金属掩膜的条件优化,比如钝化的比例增加。
3楼2012-12-18 15:05:29
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