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1楼2012-12-08 12:49:32

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magicwwk

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,用氢氟酸溶液比较好吧，我们做的SiO2模板较好去除

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qingdacuihua

6楼2012-12-08 22:04:19

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加碱，一般是NaOH.我们实验室脱硅是用的碱，用的是SBA15做氮杂化的介孔碳

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2楼2012-12-08 14:23:45

张磊爱化学

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可以用氢氧化钠水溶液或者氢氟酸溶液来刻蚀的！

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岂能尽如人意但求无愧于心

5楼2012-12-08 16:34:11

magicwwk

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时间上也没控制，就只在抽滤中，多抽几遍，不过那样产量会比较小

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12楼2013-01-17 08:38:01

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传说硅和碱反应，加强碱可以

3楼2012-12-08 14:39:49

s016357

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应该是用HF处理你可以看下戴洪兴老师的几篇文献是关于多孔过渡金属氧化物制备的

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qingdacuihua

4楼2012-12-08 15:45:51

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4楼: Originally posted by s016357 at 2012-12-08 15:45:51
应该是用HF处理你可以看下戴洪兴老师的几篇文献是关于多孔过渡金属氧化物制备的

可以把文献名说下吗，感谢！

7楼2012-12-09 08:24:39

qingdacuihua

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6楼: Originally posted by magicwwk at 2012-12-08 22:04:19

,用氢氟酸溶液比较好吧，我们做的SiO2模板较好去除

用的时候需要注意哪些问题呀？

8楼2012-12-09 08:26:25

smile1022

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根据你样品的性质，用氢氟酸或经氧化钠去除

太追求efficiency，就会牺牲accuracy

9楼2012-12-09 10:28:44

zhangywei

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用氢氟酸好一些，注意接触氢氟酸的都要用塑料的，不要用玻璃的。当然手也要带上塑胶手套

10楼2012-12-09 14:51:56