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linyuecu
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旋涂法
最近用旋涂法做聚合物共混膜,碰到了以下几个问题:
1.旋涂一次过后,如果膜不均匀,是不是可以再涂上溶液继续旋涂,会不会影响膜的形态
2.旋涂后所得的膜要观察表面的形态,需要用什么表征技术
3.旋涂后,要退火是采用真空烘干,还是一般的退火,两者有何区别
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表面形态可以用SEM扫描电镜
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ytb5227
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旋涂不均匀要考虑1.溶液浓度是不是合适2.转速会不会太低.3.旋涂操作是否熟练。表面形态还可以用AFM来表征
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3楼
2012-12-05 08:47:11
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吕思刘加油
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对于第一个问题,答案是肯定的,但两次旋涂间隔时间需要比较短,不可以旋涂第一次之后很长时间再旋涂第二次;第二个问题可以使用SEM(扫面电镜),AFM(原子力显微镜)等;第三个问题是这样的,需要看你的样品是什么样品,如果在空气中烘干并不会影响这种材料,或者说这种材料在高温下不与氧气反应,就可以在空气中干燥,如果会在高温下发生反应则需要在真空烘箱中烘干。还有一种情况就是如果需要氧气出去材料中的一些物质,比如说想除掉膜中的碳,则可以在空气中干燥,这是有目的的利用空气中的氧气出去膜中的某些物质,至于你的材料旋涂成的膜则需要看你的具体要求以及组成来决定了
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2012-12-05 08:53:44
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吕思刘加油
at 2012-12-05 08:53:44
对于第一个问题,答案是肯定的,但两次旋涂间隔时间需要比较短,不可以旋涂第一次之后很长时间再旋涂第二次;第二个问题可以使用SEM(扫面电镜),AFM(原子力显微镜)等;第三个问题是这样的,需要看你的样品是什么 ...
那我看到文献里在做PS/PMAM共混膜,他们采用真空烘箱退火,这是什么原因呢?
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5楼
2012-12-05 14:51:30
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linyuecu
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那我看到文献里在做PS/PMAM共混膜,他们采用真空烘箱退火,这是什么原因呢?...
这个我真心不知道 你可以写信问作者
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6楼
2012-12-05 18:15:04
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吕思刘加油
at 2012-12-05 08:53:44
对于第一个问题,答案是肯定的,但两次旋涂间隔时间需要比较短,不可以旋涂第一次之后很长时间再旋涂第二次;第二个问题可以使用SEM(扫面电镜),AFM(原子力显微镜)等;第三个问题是这样的,需要看你的样品是什么 ...
你好,我想请问下,旋涂法的时候,所用的溶液要有什么要求,我想在聚合物旋涂液中加入纳米金属,这个金属离子加入后是不是溶液是澄清的就可以了?
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8楼
2013-07-03 21:35:05
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linyuecu
at 2013-07-03 21:35:05
你好,我想请问下,旋涂法的时候,所用的溶液要有什么要求,我想在聚合物旋涂液中加入纳米金属,这个金属离子加入后是不是溶液是澄清的就可以了?...
不澄清也可以 但必须均匀
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9楼
2013-07-04 08:49:49
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吕思刘加油
at 2013-07-04 08:49:49
不澄清也可以 但必须均匀...
就是说悬浮液也可以吗
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10楼
2013-07-04 18:22:31
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10楼
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linyuecu
at 2013-07-04 18:22:31
就是说悬浮液也可以吗...
当然了 当然可以
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11楼
2013-07-05 09:58:53
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樱木花道6
7楼
2012-12-05 19:22
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