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北京石油化工学院2026年研究生招生接收调剂公告
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heated

木虫 (正式写手)

[求助] 有能做100nm条宽SiO2深刻蚀的吗?

刻蚀深度要求在200-500nm。谢谢
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yehanwin

木虫 (正式写手)

敢问楼主,这个问题你解决了吗???
升级为木虫,纪念下!
6楼2013-11-26 23:21:27
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yswyx

专家顾问 (著名写手)


【答案】应助回帖

感谢参与,应助指数 +1
能做倒是能做,刻蚀深度的要求意味着良率开始会比较低,要优化。
电子束胶和石英的选择比能达到多少,现在也是个问号。
你是要光刻和刻蚀都代工,还是你做光刻,别人做刻蚀?
如果要光刻一起做的话,那价格非常贵的,按面积算的。而且,都是要收一定的工艺开发的费用的。
如果确定要做的话,可以发短信给我。
2楼2012-11-13 14:59:20
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heated

木虫 (正式写手)

引用回帖:
2楼: Originally posted by yswyx at 2012-11-13 14:59:20
能做倒是能做,刻蚀深度的要求意味着良率开始会比较低,要优化。
电子束胶和石英的选择比能达到多少,现在也是个问号。
你是要光刻和刻蚀都代工,还是你做光刻,别人做刻蚀?
如果要光刻一起做的话,那价格非常贵 ...

谢谢回复。
我想光刻和干法刻蚀都代工。200nm周期,占空比1:1,光刻能否用激光全息曝光不用电子束光刻?电子束光刻按面积算,的确太贵了。

另外,刻蚀时只要线条不塌、不变形,侧蚀厉害一点也能接受。对于腐蚀后侧壁平整度要求也可降低。
3楼2012-11-13 15:07:23
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semi-white

铁杆木虫 (著名写手)

Pay first, then get.

【答案】应助回帖

感谢参与,应助指数 +1
深度好控制一些,100nm宽光刻很难做吧
4楼2012-11-13 15:47:47
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