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小木虫于

金虫 (正式写手)

[求助] vasp的MD考察结构的稳定性

最近接触vasp的MD,用MD检查结构的稳定性。有如下几个例子
1:在确定的温度下考察总能随时间的变化(如Nanotechnology 23, 385704, 2012 图一)。
2:在确定的温度下,温度随时间的变化,说明结构在某温度下是稳定的(APL 96, 163102, 2010 图二 及 PRL 108, 197207, 2012图三)
第一个很好理解,但是第二个怎么是在确定的温度下温度随时间的变化,不知道是什么意思.
而且这里说的温度确定为多少,如300K,应该是初始和终止温度都是300K,即TEBEG和TEEND都是300吧。哪位高手帮忙解释一下。

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hedaors

禁虫 (正式写手)

隐清堂主

【答案】应助回帖

★ ★
感谢参与,应助指数 +1
franch: 金币+2, 谢谢回帖交流, 2012-11-05 14:37:33
就是温度在 300K 左右震荡。就是稳定的。
否则温度大幅度偏离 300K ,就不稳定。
2楼2012-11-04 20:37:30
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小木虫于

金虫 (正式写手)

引用回帖:
2楼: Originally posted by hedaors at 2012-11-04 20:37:30
就是温度在 300K 左右震荡。就是稳定的。
否则温度大幅度偏离 300K ,就不稳定。

这里不是确定的温度么,这又是什么意思?
3楼2012-11-04 20:57:22
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