| 查看: 549 | 回复: 1 | ||
[求助]
请问晶体硅会由于离子注入的损伤而在PN结界面产生界面态么?
|
| 实验室制备的硅PIN光电探测器(5E-11衬底)进行电容-频率测试的时候,发现低频和高频的电容变化很大(超过一个数量级),不知道如何解释曲线,怀疑是离子注入的时候形成的损伤造成的界面态产生的,但是查文章没有发现有提及关于同质PN结关于界面态的讨论,究竟晶体硅会由于离子注入的损伤而在PN结界面产生界面态么? |
» 猜你喜欢
期刊推荐
已经有3人回复
279软件工程求调剂
已经有0人回复
冶金与矿业论文润色/翻译怎么收费?
已经有201人回复
材料总分330,一志愿西交,本科苏大求调剂
已经有7人回复
太原科技大学材料科学与工程学院招收金属材料类博士一名
已经有18人回复
太原科技大学材料科学与工程学院招收金属材料类博士一名
已经有0人回复
武汉纺织大学2026年招收硕士研究生-全国重点实验室-【高性能、功能纺织复合材料方向】
已经有6人回复
085600总分293求B区调剂
已经有2人回复
DAC对顶压砧|8个月实战记录(含交付数据)
已经有1人回复
急招2026 博士|第2批 海南大学 |国家重大人才工程人才团队|2名
已经有7人回复
急招2026 博士|第2批 海南大学 |国家重大人才工程人才团队|2名
已经有0人回复
wbcui
至尊木虫 (知名作家)
- MEPI: 1
- 应助: 221 (大学生)
- 贵宾: 0.349
- 金币: 16296.6
- 散金: 359
- 红花: 73
- 帖子: 8321
- 在线: 919小时
- 虫号: 543804
- 注册: 2008-04-11
- 专业: 金属功能材料
2楼2012-10-28 21:44:55












回复此楼