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Gina88木虫 (正式写手)
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求助ISMEAR
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For semiconductors or insulators use the tetrahedron method (ISMEAR=-5), if the cell is too large (or if you use only a single or two k-points) use ISMEAR=0 in combination with a small SIGMA=0.05. • For relaxations in metals always use ISMEAR=1 or ISMEAR=2 and an appropriated SIGMA value (the entropy term should be less than 1 meV per atom). Mind: Avoid to use ISMEAR>0 for semiconductors and insulators, since it might cause problems. For metals a sensible value is usually SIGMA= 0.2 (which is the default). • For the calculations of the DOS and very accurate total energy calculations (no relaxation in metals) use the tetrahedron method (ISMEAR=-5). 以上是手册上拷贝下来的，有一些不太明白，想问大侠： 1.上面所说对半导体或者绝缘体，用ISMEAR=-5. 后面又说对于总能和DOS计算用ISMEAR=-5. 那对于金属的总能和DOS计算可否用ISMEAR=-5呢？ 2.对于电荷密度、能带的计算，ISMEAR一般用什么呢？ 3.在预先不知道材料是半导体、金属、还是绝缘体的情况下ISMEAR可以用GS方法，但计算之后如果材料是金属，则用MP方法，如果是半导体或者绝缘体，则用ISMEAR=-5.不知道我这样理解对不对？ 4.有一种半导体，禁带宽度很小，能带离费米能级太近，这时候ISMEAR=-5还适用于该体系吗？如果不适用，那ISMEAR该用什么呢？ 5.大家计算的时候有用过feimi-ismearing吗，什么时候用它呢？ 6.几何优化的时候大家一般也多用ISMEAR=-5 或者MP方法吗？ 7.对于那种有自旋的半金属的计算，一种自旋是半导体，另一种自旋是金属，那ISMEAR又应该用什么呢？ 8.什么情况下用ISMEAR=-3啊？大家在测试、优化、静态计算、态密度、能带等的计算过程中，通常会换ISMEAR吗？都在什么情况下换ISMEAR呢？ [ Last edited by Gina88 on 2012-10-28 at 14:36 ] |
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