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关于分子筛膜修饰源和SiO2膜疏水方面
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小弟现在做MFI分子筛膜晶内修饰，用以分离H2/CO2，师兄师姐以前修饰源是硅烷，裂解之后沉积的是SiO2，因为我修饰好之后还得用于下游做水汽变换反应，但是SiO2水热稳定性不好。 现在想找一种新的修饰源，让它沉积在晶内孔道后水热稳定性好，或者用以前的硅烷裂解沉积SiO2，做什么处理可以使其水热稳定性好，我看的SiO2膜疏水处理都是在制备过程中，有没有做好之后再处理使其疏水呢？ 被老板骂了N次了，都不想读了现在  若有好的建议，另会感谢 |
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