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feng毛毛

银虫 (小有名气)

[求助] 硅片上旋涂knn前驱体溶液

1.我做的是KNN薄膜,将凝胶旋涂在硅片上时,涂第一层的时候,总能看到交界面上有气泡,热处理会产生裂纹,怎样操作才会减少气泡的产生,是硅片不干净么?求高手指点
2.旋涂时,怎样将胶滴到硅片上啊,是从中间开始滴一滴,让它自己慢慢展开?还是从中间滴,直到片上都是胶为止?不胜感激
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努力就会有收获
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wu1008

金虫 (著名写手)


zhaohaixing: 金币+1, 鼓励交流 2012-09-20 15:52:28
KNN?(K,Na)NbO3?
3楼2012-09-20 13:57:43
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yswyx

专家顾问 (著名写手)


【答案】应助回帖

★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★
感谢参与,应助指数 +1
zhaohaixing: 金币+1, 鼓励交流 2012-09-20 15:52:14
feng毛毛: 金币+25, ★★★★★最佳答案 2012-09-21 22:22:56
不了解您的凝胶是什么性质,但从我们涂光刻胶的经验来说,应该对您的问题有帮助。

1. 交界面上的气泡产生有多种可能。一种是因为你的凝胶里本身含有气泡,这个需要将你凝胶静置甚至做真空排泡才可以,即使微小的气泡加热后也会破裂的。你可以在显微镜下观察一下,如果涂好胶后,这个气泡是在凝胶层中间的,多半是凝胶本身含有气泡。真空排泡是否能做,要看你的凝胶在真空中的寿命。另外还可以做离心,然后滴胶的时候,取样从瓶子的底部取样,或者离心后再排泡。
第二种是硅片上本身不干净,比如有颗粒或者有别的沾污。颗粒会被凝胶包裹,但是颗粒沿径向向外侧可能会有气体被包裹。显微镜下观察,如果气泡中心有核,那就是颗粒问题。如果是别的沾污,也有可能造成气泡,因为会导致凝胶和硅片的粘滞性发生变化。避免颗粒和沾污的最好办法就是用半导体标准的清洗方法做清洗,丙酮酒精超声之类的是洗不干净片子的。

2. 涂胶机一般都可以把涂胶分为两个时段,第一个时段低速,用于把胶展开,第二个时段高速用于均匀。所以你可以在低速段让它慢慢展开,至于多少转速,要看你凝胶的粘度。如果您的凝胶比较黏,可以从中间滴,同时在片子缓慢旋转的时候,慢慢向径向外侧移动,这样可以保证在小消耗量下涂满片子。

如果你想洗硅片或者直接用免洗的真空包装的片子,我应该可以帮你。
2楼2012-09-20 13:52:27
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feng毛毛

银虫 (小有名气)

引用回帖:
2楼: Originally posted by yswyx at 2012-09-20 13:52:27
不了解您的凝胶是什么性质,但从我们涂光刻胶的经验来说,应该对您的问题有帮助。

1. 交界面上的气泡产生有多种可能。一种是因为你的凝胶里本身含有气泡,这个需要将你凝胶静置甚至做真空排泡才可以,即使微小的 ...

回答的真好,一看是个专家,您知道镀铂的硅片怎么清洗么?也是采用半导体标准的清洗方法?如果你那里有免洗的镀铂的硅片就更好了
努力就会有收获
4楼2012-09-20 14:55:08
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feng毛毛

银虫 (小有名气)

引用回帖:
3楼: Originally posted by wu1008 at 2012-09-20 13:57:43
KNN?(K,Na)NbO3?

恩是的,你也做KNN?可以交流交流
努力就会有收获
5楼2012-09-20 14:57:08
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