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royye2211

铁虫 (初入文坛)

引用回帖:
8楼: Originally posted by shad-hunter at 2012-09-02 10:10:38
一般设置-1吧,具体要自己看情况而定,局部腐蚀一般是电火花击穿所致,因此,电流密度和电压不可过大,HO-离子浓度不可过高,想要膜层厚点,可相对延长氧化时间即可,希望对你有帮助。。。

非常感谢啊,望以后多多赐教
127 hours
11楼2012-09-03 23:18:36
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royye2211

铁虫 (初入文坛)

引用回帖:
10楼: Originally posted by zsf790101 at 2012-09-03 10:39:27
我在实验过程中也发现OH离子浓度过高也会出现这种情况。

谢谢了,以后多交流啊
127 hours
12楼2012-09-03 23:20:03
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多多余余

木虫 (正式写手)


小木虫: 金币+0.5, 给个红包,谢谢回帖
时间有点长,我们一般15-20分钟,膜后达到20微米左右就可以了,镁合金微弧氧化陶瓷层占到一定的厚度,按照涂层生成原理,要击穿必然需要大的电弧,能量要大,这时涂层形貌和结构已经很疏松了。做后没有必要的。
13楼2013-03-07 17:26:17
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