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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 金属 » 表面处理 » 关于AZ91D镁合金微弧氧化的问题
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royye2211

铁虫 (初入文坛)
引用回帖:
8楼: Originally posted by shad-hunter at 2012-09-02 10:10:38
一般设置-1吧，具体要自己看情况而定，局部腐蚀一般是电火花击穿所致，因此，电流密度和电压不可过大，HO-离子浓度不可过高，想要膜层厚点，可相对延长氧化时间即可，希望对你有帮助。。。

非常感谢啊，望以后多多赐教
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127 hours
11楼2012-09-03 23:18:36
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royye2211

铁虫 (初入文坛)
引用回帖:
10楼: Originally posted by zsf790101 at 2012-09-03 10:39:27
我在实验过程中也发现OH离子浓度过高也会出现这种情况。

谢谢了，以后多交流啊
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127 hours
12楼2012-09-03 23:20:03
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多多余余

木虫 (正式写手)
★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包，谢谢回帖
时间有点长，我们一般15-20分钟，膜后达到20微米左右就可以了，镁合金微弧氧化陶瓷层占到一定的厚度，按照涂层生成原理，要击穿必然需要大的电弧，能量要大，这时涂层形貌和结构已经很疏松了。做后没有必要的。
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13楼2013-03-07 17:26:17
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