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真诚地请教关于二氧化钛表面含硅有机物修饰后，煅烧产物是啥?
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各位XDJM, 本人实验遇到一个问题，我对二氧化钛表面进行了3-氨丙基三甲氧基硅烷(APTMS)修饰，然后负载上其他的贵金属，其中APTMS起到了桥梁的作用，然后想通过高温煅烧去掉有机物(在惰性气体比如氮气或氩气气氛中煅烧)。 我的问题是：通过在惰性气氛中煅烧，有机物(C,O,H, N,Si) 能被去除完全吗，特别是APTMS中含有的Si元素能被去除吗，如果不能，它会以什么形态存在呢？ APTMS的结构如下： OCH3-Si-(OCH3)2-CH2-CH2-CH2-NH2 请各位虫友多多指教，谢谢！ |
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