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lsyuanqiang木虫 (初入文坛)
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[求助]
请教HNBR用DCP硫化的问题
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配方的硫化体系是DCP（2.5份)+taic(1.5份），我在实验室平板硫化机上165℃硫化后放在烘箱中进行二段硫化，但是有的时候平板硫化出来的试片表面不太平整，会出现大鼓包，和小点点，像小气泡一样，二段后小点点就基本消失了。这是不是和DCP硫化本身就会释放小分子物质有关？还是DCP硫化本身就是这样的容易产生气泡？还是其他的什么原因？ 而我的胶料最终要实现产品是要把胶料注射到一个密闭的模型中，然后进直接蒸汽硫化罐中硫化罐。请问这样用这个硫化体系是不是很容易产生气泡？如果要进行二段硫化要在哪里进行呢？硫化罐中可以吗还是必须在烘箱中？  类似气泡一样的  表面不平整 [ Last edited by lsyuanqiang on 2012-7-5 at 21:27 ] |
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xwyaolkaoyan
禁虫 (正式写手)
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4楼2017-09-20 14:55:42
double_lan
金虫 (正式写手)
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- 专业: 高分子助剂
2楼2012-10-09 20:39:46
3楼2017-05-01 10:15:23