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薄膜技术 顾培夫 已有2人参与
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薄膜技术 顾培夫 本书是在浙江大学“光学薄膜技术”讲义的基础上编写的。阐述了薄膜技术的重要性和关键所在,薄膜的特性、测试和制造等。是一本专业介绍真空和薄膜技术的书籍。 目录 第一章 真空设备第一节 真空的基本知识 第二节 真空的获得 第三节 真空的测量 第四节 实用真空系统 第二章 制备技术第一节 物理气相淀积（PVD） 第二节 化学气相淀积（CVD） 第三节 溶液成膜法 第三章 制备工艺因素第一节 工艺因素分析 第二节 工艺因素优选 第三节 制备参数监测 第四章 薄膜材料第一节 金属薄膜 第二节 介质和半导体薄膜 第三节 有机薄膜 第四节 红外薄膜材料 第五节 紫外薄膜材料 第六节 任意折射率的薄膜 第七节 基板材料 第五章 膜层厚度的均匀性第一节 膜厚的理论分布 第二节 实用蒸发源的蒸汽发射特性 第三节 改善均匀性的措施 第四节 膜厚均匀性的测量 第六章 薄膜的厚度监控第一节 概述 第二节 目视法 第三节 极值法 第四节 波长调制法 第五节 任意厚度的监控方法和装置 第六节 监控误差的计算机模拟 第七章 薄膜的结构特性第一节 薄膜的形成 第二节 薄膜的微观结构 第三节 薄膜的成分 第四节 薄膜微观结构和成分对膜层性质的影响 第五节 改善结构的途径 第八章 薄膜的光学性质及其测量第一节 光谱特性 第二节 光学常数 第九章 薄膜的力学性质及其检测第一节 薄膜的附着力和硬度 第二节 薄膜的应力 附录一 薄膜材料特性 附录二 去膜腐蚀液 附录三 常用物理常数和单位转换[ Last edited by linjie137 on 2012-7-5 at 19:05 ] |
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2012-07-05 16:42:32, 9.09 M
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