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“良率诊断”工具缩短纳米IC设计周期
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Cadence Design Systems公司近日宣布推出业界第一款“良率诊断”工具——Encounter Diagnostics。该产品为缩短纳米IC设计周期提供了新的途径。 尽管设计和测试工程师可在硅片调试的最初阶段使用这种诊断工具，但这种工具可以更多地被工艺和生产工程师用于IC制造过程。 Cadence的Encounter Diagnostics支持各种流行的ATPG工具，并能同时实现静态和动态诊断。Cadence宣称，通过模式故障建模，Encounter Diagnostics用户还可为发生的各种故障建立模型。 Encounter Diagnostics还可以提供“批量”和“精确”两种模式。在批量模式下，工具可根据对具有统计意义样品尺寸的分析识别出最关键的设计相关问题。精确模式下，该产品能确定故障根源，以便在故障分析实验室中进行验证。 基于时间的许可证起价145,000美元(仅供参考)。 Sample Text [search]google[/search] |
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