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电沉积工艺与电沉积机理之间有什么相关联系
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liuxyz2008
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电沉积工艺与电沉积机理之间有什么相关联系
做了一个电沉积金属的相关实验,有个问题请各位知道的虫友指点指点
建议或者相关文献也行,先谢谢各位。
开始用两电极在一个金属基体A上沉积了一种金属B,在A上可以看到B出现,检测显示也是B. 后来模仿别人对B在A上沉积机理进行了研究,用三电极体系,做了循环伏安和计时电流,显示为可逆或不可逆过程和瞬时成核或连续成核。
问题是电沉积工艺与电沉积机理之间有什么联系呢?可逆或不可逆过程和瞬时成核或连续成核对镀层形貌、电参数什么的有什么联系?
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1楼
2012-04-12 21:40:04
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dahutu985
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2012-04-13 09:06:15
做了三电极体系等测试就知道还原的电势和电流是多少了可指导沉积工艺,如果不知道还原的电势做实验就是瞎子过河,没有主心骨了。有些金属单独是不能沉积的,要和另外的金属一起沉积出来的,望其他专家多指点
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2012-04-12 23:09:53
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zhangxiufly
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2012-04-13 09:06:38
A可以沉积在B上。。B也可以沉积在A上。。。不能表示他们的反应的可逆的。。。
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3楼
2012-04-13 08:51:23
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liuxyz2008
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2楼
:
Originally posted by
dahutu985
at 2012-04-12 23:09:53:
做了三电极体系等测试就知道还原的电势和电流是多少了可指导沉积工艺,如果不知道还原的电势做实验就是瞎子过河,没有主心骨了。有些金属单独是不能沉积的,要和另外的金属一起沉积出来的,望其他专家多指点
主要是机理三电极出来的电势和电流,在工艺上使用三电极才能用,目前我们用工厂的那种两电极模式也能看到有金属沉积出来。
主要想知道可逆不可逆,瞬时成核或连续成核对最终得到的镀层有什么影响
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4楼
2012-04-13 09:10:28
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yanbo1986
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2012-04-13 14:44:21
可逆不可逆可以看看还原电流和氧化电流的比值,另外就是还原电势和氧化电势的电势差。瞬时成核和连续成核对镀层的表面形貌会有影响。记得好像是瞬时成核是指瞬间在电极表面的活性点上生成结晶核,然后晶体会在这个上面生长,最后晶粒的颗粒可能会比较大。连续成核会源源不断的生成结晶核,因此晶体生长点比较多,在同等电量的情况下晶粒可能会小。我记得好像是这样,具体的还得楼主去多看看书籍。
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5楼
2012-04-13 14:07:03
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