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请教一个光催化问题:荧光信号强光催化活性就差吗?
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荧光是半导体受光照激发后,跃迁到导带的光生电子回到价带的过程发出的光。因此,可以看成是光生电子与空穴的复合,这对光催化反应是不利的。一般来说,半导体的荧光越强,光催化活性越差。但是最近在看文献的时候发现这个规律也不是完全正确,也有学者提出相反的论调,认为荧光的强弱与半导体纳米离子中的表面氧空位和缺陷有关,在光致发光过程中,表面氧空位和缺陷能够束缚光生电子,同时形成自由激子或束缚激子,并进一步产生荧光,氧空位和缺陷浓度越大,荧光越强。同时氧空位和缺陷对光生电子的束缚会降低光生电子和空穴的复合,有利于光催化反应的进行。不知道这个论点有没有道理。 或者是不是可以这样来解释,半导体的荧光信号可从强度和寿命两个方面衡量,荧光寿命长,说明光生电子与空穴复合的速度慢,有利于光催化反应。而荧光信号强则说明电子跃迁回来更为容易,所以不利于光催化。但是如果碰到信号即强,寿命又长的半导体材料又该如何解释呢? 不知各位牛人能否给我解惑一下。 [ Last edited by daiqiguang on 2007-5-11 at 09:21 ] |
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