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求教怎样把铁在微米量级刻蚀成某种形状的技术？
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由于下面有氧化铝（几个纳米）的缘故，不能用酸或者碱 光刻的developer 是强碱，不会融掉氧化铝也会钻出几个洞 电子束曝光用的pmma 做lift off的话，扛不住蒸铁的温度。 |
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