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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 学术讨论 » 请问下氢氟酸除去二氧化硅的问题
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tantis88

铜虫 (正式写手)

[求助] 请问下氢氟酸除去二氧化硅的问题

我是想用氢氟酸除去二氧化硅来制取碳.但是洗了好几遍还有二氧化硅的XRD.
10%的HF酸静置洗24H,请问一下,洗的时候容器是开口还是封口啊,怎么样才能洗干净呢?
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1楼 2012-01-03 07:33:53
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yuzhulong

金虫 (正式写手)

【答案】应助回帖

★ ★
感谢参与，应助指数 +1
tantis88(金币+1): ★★★很有帮助 2012-03-10 08:30:00
tantis88: 金币+1, ★★★很有帮助 2012-03-16 10:34:05
我们用的是30%氢氟酸，在超声环境下对样品进行腐蚀。在这种条件下需要将容器封口，因为30%氢氟酸浓度是比较高的，挥发性较强。你可以试一下
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最能打的电化学博士
11楼2012-03-09 09:05:11
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Advcarbons

铁杆木虫 (正式写手)

【答案】应助回帖

★ ★
感谢参与，应助指数 +1
xjajx(金币+1): 2012-01-03 19:46:48
tantis88(金币+1): 2012-03-10 08:30:38
我们实验室做有序介孔炭的时候也是用氢氟酸洗掉二氧化硅，跟你说的条件差不多，反应的时候要保持开口，在通风橱中温度稍微高一点就行。
你那个如果除不干净是不是有包覆结构存在啊。
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2楼2012-01-03 09:53:04
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黄立军2008

木虫 (小有名气)
★
xjajx(金币+1): 2012-01-03 19:46:55
用氢氟酸除二氧化硅并不难,要点是浓度合适,温度80-85度搅拌速度合适,反应时间四个小时左旮,容器必须开口,要注意防止溢锅也要注意通风
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3楼2012-01-03 11:22:46
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黄立军2008

木虫 (小有名气)
用氢氟酸除二氧化硅并不难,要点是浓度合适,温度80-85度搅拌速度合适,反应时间四个小时左旮,容器必须开口,要注意防止溢锅也要注意通风
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4楼2012-01-03 11:23:45
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